ブルームバーグ通信が18日報じたところによると、ラトニック米商務長官はオランダの半導体製造装置大手ASMLホールディングの幹部に対し、同社の最先端装置の一つが米国主導の輸出規制に違反して中国に流出した可能性があるとの懸念を伝えた。
ラトニック氏は一連の会合でASML幹部に対し、同社のEUV（極端紫外線）露光装置を巡り懸念を示したという。中国流出の可能性があるとされるのは、人工知能（AI）向けデータセンターなどで使う先端半導体の製造に用いるEUV露光装置1台とみられる。
これに対しASMLはロイターへの声明で、「ASMLはこれまでにEUV装置を中国に出荷したことはなく、EUV装置で使用するために特別に設計された部品、モジュール、機器を中国に出荷したこともない」と説明し、流出を否定した。ASMLの最先端EUVシステムはスクールバスほどの大きさで、重さは180トンに上る。
ASMLは、中国への輸出規制を順守していないとの米政府の指摘に反論し、「輸出規制のいかなる動きにも一貫して事業を調整し、新たな規則を順守してきた」と主張している。米商務省とホワイトハウスからはコメントが得られていない。
米国は2018年以降、ASMLが中国にEUVシステムを輸出しないようオランダに圧力をかけてきた経緯がある。超党派の米議員グループは4月、半導体製造装置の対中輸出規制を強化する法案を公表しており、法案ではASML製の装置も名指しされていた。ラトニック長官は以前から、中国による米国の重要技術盗用を防ぐため、輸出規制の執行強化を訴えていた。
一方、中国ではファーウェイが中心となり、ASMLのEUV露光装置のリバースエンジニアリングによる独自開発を進めているとの報道もある。2025年12月には中国がEUV露光装置の試作機を開発したと報じられており、その過程で元ASMLの技術者を高年俸で雇用していたとも伝えられている。
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